国内刊号:31-1336/TB
国际刊号:1000-3738
发布日期:
作者:李栓平, 刘竹波, 王永胜, 于盛旺, 贺志勇, 周兵
关键词:钛掺杂, 类金刚石, 热处理, TiO<sub>2</sub>, 光学带隙, 场发射性能
采用多靶磁控溅射技术制备了钛掺杂类金刚石(Ti-DLC)薄膜,并在不同温度(300,350,400℃)下进行了热处理,研究了热处理温度对薄膜微观结构、成分、能带结构以及场发射性能的影响。结果表明:与热处理前的相比,300℃热处理后Ti-DLC薄膜中sp2-C团簇相对含量增大,光学带隙最小,开启场强最低,为5.43 V·μm-1,场发射性能最好;当热处理温度高于300℃时,薄膜的DLC含量减少,同时生成大量TiO2,光学带隙增加,薄膜开启场强增大,场发射性能变差;薄膜的场发射电流基本不受热处理温度的影响。
来源:2021年第1期
《机械工程材料》期刊编辑部