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国内刊号：31-1336/TB
国际刊号：1000-3738
发布日期:
作者：王宇星, 张侠
关键词：CrAlN纳米多层薄膜, 磁控溅射, 基体偏压, 微观结构, 力学性能
采用磁控溅射技术在不同基体偏压（-60，-70，-80，-90 V）下制备了CrAlN纳米多层薄膜，研究了基体偏压对薄膜微观结构和力学性能的影响。结果表明：随着基体偏压绝对值增大，CrAlN纳米多层薄膜中的氮含量增加，物相组成不变，择优取向由CrN（111）晶面转变为CrN（200）晶面，薄膜表面孔隙减少，组织致密性得到改善；基体偏压为-60~-80 V时，偏压对薄膜沉积速率的影响较小，偏压绝对值大于80 V时，沉积速率明显下降；随着基体偏压绝对值增大，薄膜的硬度和弹性模量提高，膜基结合力先增大后减小，在偏压为-80 V时达到最大。
来源：2021年第3期
《机械工程材料》期刊编辑部
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